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炬光科技精密設(shè)計(jì)V型槽陣列獲“ICC訊石·光通信行業(yè)英雄榜”創(chuàng)新技術(shù)獎(jiǎng)
發(fā)布日期:2026-01-16
2026年1月16日,炬光科技精密設(shè)計(jì) V 型槽(V-Groove)陣列產(chǎn)品在訊石光通信主辦的“ICC訊石·光通信行業(yè)英雄榜”評(píng)選中,憑借在高通道數(shù)、高精度光纖陣列耦合領(lǐng)域的創(chuàng)新設(shè)計(jì)與制造能力,成功獲得創(chuàng)新技術(shù)獎(jiǎng)項(xiàng)。公司激光光學(xué)事業(yè)部副總經(jīng)理田勇受邀出席在東莞舉行的IFOC訊石光通信年度論壇暨2025“訊石英雄榜”頒獎(jiǎng)典禮并登臺(tái)領(lǐng)取獎(jiǎng)項(xiàng)。

獲獎(jiǎng)產(chǎn)品亮點(diǎn)

本次獲獎(jiǎng)的全新精密設(shè)計(jì) V 型槽陣列,面向 CPO、光模塊、光纖連接器、FTTX 網(wǎng)絡(luò) PLC 分路器以及 WDM 系統(tǒng)中的 AWG 等高通道數(shù)應(yīng)用,以更高的設(shè)計(jì)靈活性與制造精度,滿足高速光通信系統(tǒng)對(duì)核心光學(xué)元器件的嚴(yán)苛要求。
依托晶圓級(jí)精密制造工藝,炬光科技可在整片晶圓上對(duì)所有 V 型槽進(jìn)行同步加工,在 48、96 乃至更多通道數(shù) 條件下,實(shí)現(xiàn)從首根到末根光纖的累積間距誤差小于 500 nm,顯著提升多通道光纖陣列的對(duì)準(zhǔn)精度與耦合效率,有效降低光信號(hào)傳輸損耗。
同時(shí),產(chǎn)品采用可變 V 型槽結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),支持V/U 型、凸面、凹面、自由曲面等結(jié)構(gòu),更可在同一陣列內(nèi)實(shí)現(xiàn)不同角度、不同間距布局,并與微透鏡陣列(MLA)間距精準(zhǔn)匹配,兼顧復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)需求與裝配友好性。通過(guò)集成式機(jī)械定位設(shè)計(jì),產(chǎn)品可支持被動(dòng)對(duì)準(zhǔn)和高精度裝配,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)與功能的一體化。
在材料選擇上,炬光科技 V 型槽陣列支持 Borofloat 33、熔融石英、S-TIH53、S-BSL7(及 N-BK7 等類(lèi)似材料)、硅(Si) 等多種基材,并可根據(jù)應(yīng)用需求提供陶瓷及其他無(wú)毒光學(xué)玻璃方案,進(jìn)一步拓展應(yīng)用邊界。
以“微納光學(xué)·無(wú)限可能”為核心理念,公司致力于構(gòu)建覆蓋光刻反應(yīng)離子蝕刻、晶圓級(jí)同步結(jié)構(gòu)化、精密玻璃模壓、晶圓級(jí)精密壓印等多種微納光學(xué)制備技術(shù)平臺(tái),在同一全球制造體系下,為可插拔光模塊、FAU、OCS、PIC等應(yīng)用提供從設(shè)計(jì)、驗(yàn)證到量產(chǎn)的一體化解決方案,深度參與CPO、NPO、OIO技術(shù)路線和生態(tài)鏈。未來(lái),炬光科技將繼續(xù)以平臺(tái)化技術(shù)與規(guī)模化制造能力,助力高速光通信產(chǎn)業(yè)向更高密度、更高性能發(fā)展。